REKLAMA

Samsung wyprzedził Intela! Ruszyła produkcja najnowocześniejszych układów na świecie

To co nie udaje się Intelowi, doskonale idzie Samsungowi. Koreańska firma ogłosiła właśnie, że zaczęła masową produkcję układów w 10-nanometrowej litografii FinFET.

17.10.2016 13.51
Intel i AMD proces technologiczny 11 nm 8 nm
REKLAMA
REKLAMA

Nie powinniśmy jednak spodziewać się, że nowe procesory o przewidywanej nazwie Exynos 8895 będą mieć premierę jeszcze w tym roku. Zapewne zadebiutują dopiero w pierwszym kwartale 2017 roku w Samsungu Galaxy S8. Oznacza to, że nadchodzące smartfony koreańskiej firmy przynajmniej przez chwilę będą najbardziej nowoczesnymi urządzeniami dostępnymi na rynku. Niestety nie wiadomo, jak długo ta chwila potrwa.

Może rok, do następnej generacji urządzeń. Lub kilka miesięcy, w końcu we wrześniu też pojawiają się nowe smartfony. Albo wręcz kilka dni, ponieważ w fabrykach Samsunga produkowane są też procesory Qualcomma, których używają niemal wszystkie pozostałe firmy liczące się na rynku mobilnym. Obecnie najbardziej prawdopodobna jest ostatnia wymieniona opcja, ponieważ Samsung Galaxy S8 ma występować również w wersji z procesorem Qualcomm Snapdragon 830.

Co daje proces technologiczny 10 nm?

Nowa litografia wykorzystuje technologię 3D, która co prawda jest już używana od kilku lat, ale zyskała liczne, acz nieznane ulepszenia. Pozwala ona na zastosowanie większej powierzchni bramki, a co za tym idzie, zapewnienie większego przepływu elektronów. To z kolei przekłada się na uzyskanie większej wydajności i mniejszych strat.

Samo zmniejszenie litografii z 14- na 10-nanometrową przełoży się na 30 proc. oszczędności miejsca na układzie, podwyższenie wydajności (prawdopodobnie energetycznej) układu o 27 proc. lub zmniejszenie poboru energii o 40 proc. To, który efekt zostanie osiągnięty, zależeć będzie od inżynierów projektujących konkretny układ.

To dopiero początek przygody Samsunga z nowym procesem technologicznym. Samsung rozpoczął produkcję pierwszej generacji tego typu układów, czyli 10 nm FinFET LPE (Low-Power Early). W drugiej połowie 2017 roku zostanie uruchomiona produkcja 10-nanometrowych układów drugiej generacji, czyli 10 nm FinFET LPP (Low-Power Plus). Zapewni on uzysk porównywalny z tym osiąganym obecnie przy użyciu litografii 14 nm FinFET LPP.

REKLAMA

Litografia 10 nm jest niezwykle istotna dla rozwoju rynku mobilnego.

Pokazuje, że pod niektórymi względami wyprzedził on świat pecetów. W końcu Intel, gigant odpowiadający za produkcję zdecydowanej większości procesorów komputerowych, ma ogromne problemy z ujarzmieniem 10-nanometrowej litografii i prawdopodobnie dopiero pod koniec przyszłego roku zaprezentuje swoje układy wykonane przy użyciu zupełnie nowego rozwiązania. Później wcale nie będzie lepiej, ponieważ dalsze obniżanie procesu technologicznego staje się trudniejsze z każdą generacją.

REKLAMA
Najnowsze
REKLAMA
REKLAMA
REKLAMA